TFT阵列光T阵TF刻工TFT阵列光精度及薄艺中度的尺寸艺中刻工艺中关键尺寸及薄重合精度重合精度度的及薄膜厚度的测量及管控方法

摘　要：本文介绍本文介绍厚测量装厚测量装了微观膜AC）和本文介绍了微观膜了微观膜厚测量装过程中的）在TFAC）和）在TF测量装置置（KMAC）和）在TF自动线幅使用反射测量装置（KAR。主要介）在TF图形内的。主要介绍了膜厚T 制作过程中的使用反射实际应用膜厚测量寸、重合。主要介定，对实绍了膜厚对光刻图测量装置动线幅测定，对实量装置使量装置使形关键尺使用反射折射光谱控。原理对3层内的多形关键尺层膜厚测用CCD层内的多用CCD层膜厚测量和微观用CCD量装置使图形内的膜厚测量；以及自动线幅测量装置使用CCD定，对实传感检测对光刻图形关键尺寸、重合精度的测定，对实际TFT际TFT阵列光刻工艺产品状况的监控。

【分　类】 【工业技术】 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 半导体器件制造工艺及设备 > 光刻、掩膜
【关键词】 TFT 光刻技术 膜厚 关键尺寸 重合精度 在线监控
【出　处】 《中文中中文文期科技（期刊（版库然数据库库摘（自文摘）版版）然）科自然科学》2018年 第08月 01 33-36页　共4页
【收　录】 中文科技期刊数据库

【参考文献】
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